วัดออกซิเจนในงาน SEMICONDUCTOR Oxygen Measurement
Application: วัดออกซิเจนช่วง TRACE OXYGEN
ก๊าซที่ใช้ในการผลิตวัสดุเซมิคอนดักเตอร์สำหรับอุตสาหกรรมอิเล็กทรอนิกส์นั้นไวต่อสารปนเปื้อนที่เป็นก๊าซอย่างมาก มาตรฐานล่าสุดที่กำหนดโดยอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์กำหนดให้การวัดออกซิเจนในก๊าซ เช่น ไนโตรเจน แอมโมเนีย ไนตรัสออกไซด์ ไตรคลอโรซิเลียน อาร์กอน อาร์ไซน์ ฟอสฟีน ฯลฯ อยู่ที่ระดับ 3 ppm หรือน้อยกว่า
นอกจากนี้ กระบวนการผลิตแผ่นเวเฟอร์บางอย่าง เช่น Rapid Thermal Processing (RTP) จำเป็นต้องมีการตรวจสอบระดับออกซิเจนที่ติดตาม ออกซิเจนสามารถออกซิไดซ์พื้นผิวของเวเฟอร์ทำให้เกิดข้อบกพร่อง
Gases used in the manufacture of semiconductor materials for the electronics industry are extremely sensitive to gaseous contaminants. Recent standards imposed by the semiconductor industry mandate the measurement of oxygen in gases such as Nitrogen, Ammonia, Nitrous Oxide, Trichlorosiliane, Argon, Arsine, Phosphine, etc. to a level of 3 ppm or less.
Also, certain wafer manufacturing processes, such as Rapid Thermal Processing (RTP), require that trace oxygen levels be monitored. Oxygen can oxidize the surfaces of the wafer causing defects.
